淄博(bo)言赫特(te)氣有限公司的電子級(ji)(VLSI)氯(lv)化氫產品生產裝置于2003年(nian)投(tou)產，經北京市(shi)科委(wei)鑒定，主要用(yong)于半導體器件生產中單晶(jing)硅片(pian)的氣相拋(pao)光、外延基座腐蝕及硬質(zhi)合金制(zhi)造。

    電子及氯化氫在我們生活的各個領域中具有廣泛的應用前景，它不僅是電子工業中制造大規模集成電路所需的重要材料之一，而且應用于醫藥、化工、半導體行業，因此需求量越來越大。 
    目前已有研究人在研究制(zhi)備(bei)過程中成(cheng)(cheng)功合(he)成(cheng)(cheng)了電子級氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)，同(tong)時從這些合(he)成(cheng)(cheng)方法(fa)中發(fa)現解析法(fa)和鹽酸脫析法(fa)制(zhi)備(bei)氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)工(gong)藝(yi)簡單可大規模(mo)生(sheng)產(chan)(chan)，但(dan)是制(zhi)備(bei)的(de)(de)(de)(de)氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)純(chun)度偏低(di)，越來(lai)越不滿足電子工(gong)業(ye)，尤其(qi)是集成(cheng)(cheng)電路的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求。合(he)成(cheng)(cheng)法(fa)生(sheng)產(chan)(chan)氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)的(de)(de)(de)(de)純(chun)度偏高(gao)(gao)(gao)，但(dan)其(qi)中水量(liang)高(gao)(gao)(gao)，腐(fu)蝕嚴重，對設備(bei)要(yao)(yao)求高(gao)(gao)(gao)，生(sheng)產(chan)(chan)成(cheng)(cheng)本高(gao)(gao)(gao)。考慮到環保(bao)以及(ji)工(gong)業(ye)副產(chan)(chan)品回收利用(yong)等(deng)多方面因素(su)，制(zhi)備(bei)高(gao)(gao)(gao)純(chun)度氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)的(de)(de)(de)(de)合(he)成(cheng)(cheng)是必然的(de)(de)(de)(de)發(fa)展趨勢(shi)，正如(ru)石油(you)化(hua)工(gong)副產(chan)(chan)物(wu)氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)提純(chun)法(fa)。此(ci)提純(chun)法(fa)無需(xu)外加(jia)反應介質(zhi)，因而(er)避免了其(qi)它雜質(zhi)介質(zhi)的(de)(de)(de)(de)引入，而(er)且操作簡單，生(sheng)產(chan)(chan)成(cheng)(cheng)本低(di)，但(dan)是在我(wo)國技術還不太成(cheng)(cheng)熟。我(wo)國的(de)(de)(de)(de)電子級氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)產(chan)(chan)品大多從美，日等(deng)國進(jin)口(kou)，價格昂貴(gui)。因此(ci)我(wo)們需(xu)要(yao)(yao)進(jin)一步研究與完善(shan)電子級氯(lv)(lv)(lv)(lv)化(hua)氫(qing)(qing)的(de)(de)(de)(de)合(he)成(cheng)(cheng)工(gong)藝(yi)，給我(wo)國帶來(lai)一定(ding)可觀(guan)的(de)(de)(de)(de)社會效(xiao)應和經(jing)濟效(xiao)益。

    我公司5.0N電子級(VLSI)氯化氫產(chan)品經(jing)國(guo)內(nei)外多家半(ban)導(dao)體重(zhong)點企業(ye)連續(xu)大量在單(dan)晶硅(gui)片氣(qi)相拋(pao)光和外延基座腐蝕(shi)工(gong)藝中廣泛(fan)使用，制(zhi)得的器件產(chan)品質量與國(guo)際知名品牌相當(dang)。